RTP-1200小型快速退火爐(RTP/RTA)為韓國進口的快速退火爐。
該儀器：尺寸小巧，使用風冷、無須水冷，電流要求不高(3安培)，性價比高，使用方便，非常適合科研院所的科研使用。

技術規(guī)格：
  - 加熱方式：紅外鹵素燈，600W；
  - 紅外燈數量：4支；
  - 最快升溫速率：100℃/秒；
  - 最快降溫速率：50秒(1000℃ → 400℃)；
  - 最高溫度：1200℃；
  - 溫度精度：+/-0.3℃
  - 最大樣品尺寸：15 x 20mm；
  - 退火環(huán)境：真空、惰性氣體、空氣、其他工藝氣氛(如氧氣、氫氮混合氣等)；
  - 真空泵及極限壓力：機械泵，10-3Torr水平(選配)；
  - 電壓：220 V，單相；
  - 儀器尺寸：400*300*450mm (W*D*H)；
  - 質量：凈重30Kg；

儀器特點：

• 可在真空/不同氣氛/空氣不同環(huán)境下，對樣品進行快速熱處理；
• 溫控精度高；
• 無須配置冷水機；
• 無須使用三相電，普通實驗室單相電即可使用；
• 緊湊的臺式設計；
• 儀器操作方便，樣片裝取容易；
• 適合高?；蜓芯克蒲惺褂?；
• 價格合理，高性價比；
•  

應用領域：

• 快速熱退火 (Rapid Thermal Annealing, RTA);
• 快速熱氧化 (Rapid Thermal Oxidation, RTO);
• 快速熱氮化 (Rapid Thermal Nitridation, RTN);
• 硅化 (Silicidation);
• 擴散 (Diffusion);
• 化合物半導體退火 (Compound Semiconductor Annealing);
• 離子注入后退火 (Implant Annealing);
• 電極合金化 (Contact Alloying);
• 晶體化和致密化 (Crystallization and Densification);
• 合金熔點分析；
• 薄膜沉積；
• 等等…

參考用戶：
北京大學、南京大學、吉林大學、湖南大學、廣西大學、齊齊哈爾大學、西北大學、中科院北京納米所、中科院蘇州納米所、蘇州EST等。